Главная страница сайта Услуги решения задач по химии
Лекции по химии Учебник - общая химия


на скрещенных лучах. Такая схема приводит к образованию двумерного спектра. Вот почему диспергирующие системы на основе решеток эшелле можно использовать или как монохроматоры, или как полихроматоры.

В режиме монохроматора выбор длины волны осуществляют или вращением решетки и призмы, или перемещением выходной щели и соответствующего детектора в фокальной плоскости. В режиме полихроматора ряд выходных щелей с соответствующими детекторами смонтирован в фокальной плоскости. Альтернативой является использование двумерного детектора типа прибора с переносом заряда (ППЗ), который заменяет и щели, и фотоумножители.

□ Обратная линейная дисперсия улучшается при увеличении фокусного расстояния и числа штрихов решетки.

Характеристики оптической диспергирующей системы в части спектрального выделения характеризуются обратной линейной дисперсией и практическим разрешением. Обратная линейная дисперсия dX/dx (нм/мм)— это способность диспергирующей системы развертывать спектр в фокальной области. Чем лучше обратная линейная дисперсия, тем меньше ее величина. Дифференцирование уравнения решетки, выраженного через угол дифракции /?, приводит к уравнению

dA cos/3

где / — фокусное расстояние диспергирующей системы. Обратная линейная дисперсия в некоторой степени зависит от длины волны, поскольку величина (3, а следовательно, и cos/?, является функцией А. Эта зависимость приведена в табл. 8.1-2.

Таблица 8.1-2. Изменение обратной линейной дисперсии (ОЛД) в зависимости от длины волны. Плоская решетка 3600 штрих/мм с фокусным расстоянием 1 м и величиной а — Р = 14,74°

Длина волны, нм

/3, град.

ОЛД, нм/мм

170

24,21

0,253

200

27,51

0,246

300

39,18

0,215

400

52,69

0,168

500

71,16

0,090

Чтобы улучшить обратную линейную дисперсию, т. е. уменьшить ее значение, необходимо увеличить, по крайней мере, один из трех параметров к, п или /. Исходя из соображений размера и термической стабильности, большинство производимых дисперсионных систем имеет фокусное расстояние порядка 0,5-1 м. Следовательно, необходимо увеличивать плотность штрихов и использовать порядки больше единицы. Влияние этих двух параметров показано в табл. 8.1-3.



 

Вернуться в меню книги (стр. 1-100)

 

Если нужно решить контрольную по химии - обращайтесь к нам
Поможем быстро и качественно решить задачи по химии, выполнить контрольную работу или написать реферат. Консультируем по химии онлайн.

 

Copyright © 2007-2012 Zomber.Ru

Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию