Главная страница сайта | Услуги решения задач по химии |
Лекции по химии | Учебник - общая химия |
Таблица 8.1-3. Влияние плотности штрихов (плоская решетка) и порядка на обратную линейную дисперсию (при 230 нм) для однометрового монохроматора (а — Р = 14,74°)
Плотность штрихов, мм 1 |
2400 |
3600 |
2400 |
3600 |
Порядок |
1 |
1 |
2 |
2 |
Обратная линейная дисперсия, нм/мм |
0,382 |
0,235 |
0,157 |
0,061 |
Следует заметить, что дисперсия зависит не только от порядка и плотности штрихов, но и зависит (слабо) от cos/З. Следовательно, хорошая линейная дисперсия получается при использовании большого числа штрихов и высоких порядков, но в ущерб диапазону длин волн, поскольку максимальная длина волны будет уменьшаться. В производимых дисперсионных системах дисперсия обычно находится в диапазоне 0,1-1 нм/мм.
Практическое разрешение дисперсионной системы характеризует ее способность разделять две близкие спектральные линии. Разрешение обычно выражают в единицах длин волн (пм), тогда как разрешающая сила — это отношение длины волны, при которой проводили измерения, к разрешению. Разрешающая сила, следовательно, является безразмерной величиной.
Практическое разрешение зависит от трех основных параметров:
— теоретического разрешения, ограниченного дифракцией решетки;
— спектральной полосы пропускания;
— оптических аберраций.
Благодаря явлениям дифракции, производимым штрихами решетки, даже монохроматический падающий свет будет приводить к дифракционной картине. Эта дифракционная картина (рис. 8.1-13) имеет главный максимум и ряд минимумов и максимумов. Две близкие монохроматические линии равной интенсивности дают две дифракционные картины. Теоретическое разрешение основано на критерии Рэлея: две дифракционные картины и, следовательно, две линии считают разрешенными, если первый максимум интенсивности первой картины соответствует первому минимуму второй картины (рис. 8.1-13).
В действительности такое определение теоретического разрешения довольно оптимистично, так как свертка двух дифракционных картин не приводит к их полному разрешению. Интенсивность минимума, расположенного между
Рис. 8.1-13. Разрешение двух дифракционных картин, сформированных двумя близкими линиями. В соответствии с критерием Рэлея две линии разрешены, если максимум первой картины (сплошная линия) соответствует первому минимуму второй картины (пунктирная линия). Разрешение ДАо есть расстояние между максимумами длин волн двух линий.
|
Если нужно решить контрольную по химии - обращайтесь к нам |
Copyright © 2007-2012 Zomber.Ru
Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию