Главная страница сайта Услуги решения задач по химии
Лекции по химии Учебник - общая химия


Таблица 8.1-3. Влияние плотности штрихов (плоская решетка) и порядка на обратную линейную дисперсию (при 230 нм) для однометрового монохроматора (а — Р = 14,74°)

Плотность штрихов, мм 1

2400

3600

2400

3600

Порядок

1

1

2

2

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

0,382

0,235

0,157

0,061

Следует заметить, что дисперсия зависит не только от порядка и плотности штрихов, но и зависит (слабо) от cos/З. Следовательно, хорошая линейная дисперсия получается при использовании большого числа штрихов и высоких порядков, но в ущерб диапазону длин волн, поскольку максимальная длина волны будет уменьшаться. В производимых дисперсионных системах дисперсия обычно находится в диапазоне 0,1-1 нм/мм.

Практическое разрешение дисперсионной системы характеризует ее способность разделять две близкие спектральные линии. Разрешение обычно выражают в единицах длин волн (пм), тогда как разрешающая сила — это отношение длины волны, при которой проводили измерения, к разрешению. Разрешающая сила, следовательно, является безразмерной величиной.

Практическое разрешение зависит от трех основных параметров:

— теоретического разрешения, ограниченного дифракцией решетки;

— спектральной полосы пропускания;

— оптических аберраций.

Благодаря явлениям дифракции, производимым штрихами решетки, даже монохроматический падающий свет будет приводить к дифракционной картине. Эта дифракционная картина (рис. 8.1-13) имеет главный максимум и ряд минимумов и максимумов. Две близкие монохроматические линии равной интенсивности дают две дифракционные картины. Теоретическое разрешение основано на критерии Рэлея: две дифракционные картины и, следовательно, две линии считают разрешенными, если первый максимум интенсивности первой картины соответствует первому минимуму второй картины (рис. 8.1-13).

В действительности такое определение теоретического разрешения довольно оптимистично, так как свертка двух дифракционных картин не приводит к их полному разрешению. Интенсивность минимума, расположенного между

Рис. 8.1-13. Разрешение двух дифракционных картин, сформированных двумя близкими линиями. В соответствии с критерием Рэлея две линии разрешены, если максимум первой картины (сплошная линия) соответствует первому минимуму второй картины (пунктирная линия). Разрешение ДАо есть расстояние между максимумами длин волн двух линий.



 

Вернуться в меню книги (стр. 1-100)

 

Если нужно решить контрольную по химии - обращайтесь к нам
Поможем быстро и качественно решить задачи по химии, выполнить контрольную работу или написать реферат. Консультируем по химии онлайн.

 

Copyright © 2007-2012 Zomber.Ru

Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию