Коллоидная химия

т. е. электростатическая составляющая расклинивающего давления пропорциональна квадрату потенциала поверхности ф0.

Для сильно заряженной поверхности, когда ф0 >-и у « 1, рас-

В этом случае Пе1 не зависит от потенциала поверхности — происходит существенная экранировка поверхности противоионами. Зависимость расклинивающего давления от ф0 при некоторой постоянной толщине прослойки среды h (рис. VII-9) имеет два характерных участка: резкое изменение Пе1 при малых потенциалах поверхности и постоянное значение при больших ф0. Увеличение концентрации электролитов, вызывающее рост величины ае ~ фг^ (см. Ш.З), приводит к уменьшению расклинивающего давления прослойки данной толщины.

Интегрирование выражения (VII.21) по толщине прослойки позволяет, в соответствии с соотношением (YII.4), определить изменение ее энергии: А^ш. При постоянном потенциале это дает:

Электростатические составляющие расклинивающего давления (VII.21) и энергии пленки (VII.22) положительны, т. е. отвечают отталкиванию; их можно сопоставить с молекулярными составляющими этих величин (отрицательными, т. е. описывающими притяжение). Это позволяет в соответствии с теорией ДЛФО рассмотреть природу устойчивости тонких пленок и соответственно дисперсных систем, стабилизированных диффузными ионными слоями Сум- P110 3ависимость элекгроста. МИруя выражения (VU.21) И (\IV.Z1) С ra4ecKOft составляющей расклини-выражениями (VII.9) И (VII. 10), полу- вающего давления Пе/ от Фо-потен-

Решение химии - помощь онлайн
Быстро и качественно решим ваши задачи по химии. Консультируем в том числе онлайн.

Современная квантовая химия
В книге рассказано об основных достижениях квантовой химии.

Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию

Главная страница сайта	Услуги решения задач по химии
Лекции по химии	Учебник - аналитическая химия