Главная страница сайта | Услуги решения задач по химии |
Лекции по химии | Учебник - общая химия |
характеристическому контрасту. Таким образом, обычные получаемые методом ПЭМ фотографии отображают наноструктуру материала.
Это простое описание процессов рассеяния можно расширить для объяснения получаемых в ПЭМ изображений решетки или атомов (как показано на рис. 10.2-3). Изображение с атомным разрешением основано на когерентной интерференции электронных волн образца и волн рассеянных электронов, приводящей к возникновению участков с интенсивностью, которая коррелирует с расположением атома и распределением интенсивности рассеянных электронов.
□ Дифракционные картины можно использовать для определения межплоскостных расстояний в кристалле.
Рассеяние под углами Брэгга приводит к появлению картин электронной дифракции, которые можно измерить либо в режиме отражения (ДМЭ, ДОБЭ), либо пропускания (ДПБЭ). Точечная картина (рис. 10.2-4) формируется, если выполняется условие Брэгга
пХ = 2d sin в
где п — порядок дифракции, А — длина волны, d — межплоскостное расстояние решетки.
Дифракционные картины поликристаллических материалов представляют собой концентрические кольца. Для аморфных материалов наблюдаются лишь
Рис. 10.2-4. ДПБЭ: Картины дифракции прошедших электронов, а — монокристалл; б — поликристаллический материал; в — аморфный материал [10.2-2].
|
Если нужно решить контрольную по химии - обращайтесь к нам |
Copyright © 2007-2012 Zomber.Ru
Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию