Главная страница сайта | Услуги решения задач по химии |
Лекции по химии | Учебник - общая химия |
Сканирование пучком ионов Аг+
Первичные и оже-электроны
0,1—1 мкм
Рис. 10.2-15. ОЭС: Послойный анализ (распределительный анализ по глубине) исходной поверхности посредством сочетания ионного распыления и анализа оже-электронов.
100-1000 мкм
этого подхода проиллюстрирован на рис. 10.2-15. Сфокусированным пучком ионов Аг+ с кинетической энергией 3-10 кэВ и диаметром от 1 до 100 мкм сканируют исследуемую прямоугольную или квадратную область. Поверхностные атомы удаляются в результате передачи энергии при столкновениях. Скорость травления зависит от плотности потока ионов и обычно составляет 0,1-10 нм/с. В результате на поверхности образуется кратер. Образовавшаяся поверхность кратера облучается потоком электронов по центру кратера, образовавшиеся оже-электроны далее анализируют. Таким образом, исследуют плоскую центральную часть кратера и достигают широкого динамического диапазона по глубине (получают профили, не искаженные эффектами стенок кратера). Распыление и анализ можно проводить одновременно или последовательно. «Черновой» профиль получают, записывая интенсивности оже-сигналов как функцию времени травления. Переход от интенсивностей сигналов к концентрации проводят с использованием коэффициентов чувствительности. Градуировку по шкале глубины проводят, используя информацию о скоростях травления, или, что лучше, измеряя профилометром глубину кратера после анализа. Так как коэффициенты распыления зависят от химического состава, возникают проблемы с градуировкой, если состав сильно меняется по глубине или в случае, когда система состоит из нескольких слоев. Тогда каждый слой следует градуировать отдельно.
Другим значительным артефактом является селективное распыление, которое означает индуцированное распылением изменение поверхностного состава, когда различные элементы, находящиеся в зоне травления, характеризуются различными коэффициентами распыления. Например, в сплаве А-В коэффициент распыления элемента А больше, чем элемента В. При травлении поверхность обогащается элементом В. В таких случая требуется корректировка градуировки введением множителя, учитывающего отношение коэффициентов распыления.
Еще ряд проблем возникает при послойном анализе пространственно неоднородных материалов (включений в матрице, приводящих к различным химическим составам в пределах зоны облучения). Если коэффициент распыления элемента включения отличен от коэффициента распыления элементов матрицы, при распылении образуется поверхностный профиль (разность высот) меж-
|
Если нужно решить контрольную по химии - обращайтесь к нам |
Copyright © 2007-2012 Zomber.Ru
Использование материалов сайта возможно при условии указания активной ссылки
Решить химию